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由于复杂的供应链，以及作为基础材料使用的废旧金属数量的增加，铸造厂和金属制造商在控制熔体中的杂质和痕量元素时，面临着更多的压力。新型OE750型直读光谱仪具有较高的性能水平。它涵盖金属中所有元素的光谱，并实现对某些元素的最*低检出限。因此，此款分析仪具备价格高昂的同类仪器所能提供的功能水平，可为众多铸造厂和金属制造商提供优质分析。
OE750实现高分辨率和宽动态范围要归功于采用了先进CMOS探测器技术的革命性新光学理念。其中有四项专利正处于申请状态。因此，这种新型分析仪能覆盖非常宽的波长范围；这意味着该分析仪能测量金属中ppm级别的所有元素。这对于满足当今严格的金属规格分析至关重要，该分析仪可以满足新的ASTM E415标准中关于碳钢和低合金钢的试验方法的要求。
OE750是铝铸件的理想光谱仪，因为它可以测定亚共晶和过共晶铝硅合金中含量极低的磷。它可以分析锑、铋、锶和钠，以及杂质和痕量元素，从而确保这些元素能够被控制在铝熔体中，以优化结构改造。创新性光学设计能实现更短的启动时间，因为光学系统的体积相对较小。这有助于那些需要在多点测量验证熔体质量的工厂实现高批量生产。
除了新的光学设计之外，OE750还有其他支持大批量金属分析的技术特性。它有一个新的密封火花台，具有优化层流设计，可降低氩气消耗，降低污染的可能性，并大大降低维护要求。带有低压氩气吹扫的独特中压系统可减少泵的使用。这可将泵的功耗降低90%，并避免油气污染，从而增加可靠性和仪器的正常运行时间。这使得OE750具有高可靠性和低运行成本。
除创新性硬件技术外，新型OE750还包括可提高性能的软件。例如，它包括日立牌号数据库，该数据库包含来自69个国家的339,000多种材料的1,200多万条记录和标准，减少了人工查阅牌号目录的时间和潜在错误。可选的炉料校正软件会自动计算添加至熔体中的正确材料量，使其符合规范。
日立OES产品业务开发经理Wilhelm Sanders表示：“在过去，铸造厂和金属加工企业在购买仪器时，不得不在高分析性能和可接受价格范围之间作出选择。现在有了新型OE750，他们无需想出折中方案了。OE750能凭借一套可使用的解决方案提供全面的金属分析。”
